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    1.清单管理：建议由国科委牵头，联合外贸、一机、二机及我集团，立即成立专项小组，拟定一份动态更新的《关键技术及设备需求清单》。清单应聚焦当前“巴统”严格禁运、且我急需突破的领域，例如：

    1.半导体材料制备与提纯设备：

    区熔提纯炉：用于制备超高纯度（要求达到99.9999%以上）的单晶锗、单晶硅锭，此为制造高性能晶体管及探索硅基集成电路的基础。

    单晶炉（切克劳斯基法）：用于控制生长大尺寸、低缺陷的单晶硅棒，是未来半导体工业的核心。

    高精度半导体材料参数测试仪：包括电阻率、载流子寿命等关键参数的测量设备。

    2.晶圆制备与光刻核心设备：

    精密晶圆切片机与研磨机：用于将单晶锭精确切割为薄片（晶圆），并完成表面研磨抛光。

    步进重复照相机：用于制作光刻掩模版，是将电路设计图形转移到晶圆上的关键，要求图形缩微精度达到微米级。

    接触式/接近式光刻机：早期光刻的核心设备，用于将掩模版上的电路图形曝光至涂有光刻胶的晶圆上。

    精密掩模版制造设备：包括高精度图形发生器和掩模镀铬、刻蚀设备。

    3.薄膜沉积与掺杂工艺设备：

    真空镀膜设备：用于在晶圆表面蒸发沉积铝膜，以形成晶体管电极和互联线路。

    气相沉积炉：用于外延生长等工艺，在衬底上生长单晶薄膜。

    扩散炉：用于对半导体材料进行定域掺杂，以形成PN结，要求温度控制精确至±0.5摄氏度。

    4.精密封装与测试设备：

    金丝球焊机：用于将晶体管芯与管脚用极细金丝连接。

    晶体管自动参数测试分选仪：可对大量晶体管进行快速、自动化的性能测试与分类，大幅提升生产效率与产品一致性。

    5.配套精密仪器与基础工业装备：

    高倍率金相显微镜与扫描电子显微镜：用于观测晶体管结构缺陷与线路图形。

    超纯水与高纯度化学试剂生产线：半导体制造过程中清洗与蚀刻所必需。

    高精度恒温恒湿车间建设技术与相关控制系统。

    （三）操作实施建议

    1.分级清单：将上述设备分为核心必备与优先争取两类，在谈判中把握弹性。
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